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Pulsed 193 nm Excimer laser processing of 4H–SiC (0001) wafers with radiant exposure dependent in situ reflectivity studies for process optimization

Menduiña, A.P.; Fernández Doval, Ángel Manuel

; Delmdahl, R.; Martín Ortega, Elena Beatriz

; Kant , Krishna

; Alonso Gómez, José Lorenzo

; Chiussi , Stefano

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Física aplicada Enxeñaría mecánica, máquinas e motores térmicos e fluídos Química Física